ワコム研究所Space
 
 
HOME information company mocvd deposition recruiting access inquiry
HOME > MOCVD > WMCS-2200
 
 
産学協同により世界で初めて製品化に成功、独自開発のシステムで
FeRAM-LSIの大量生産を実現
     特長1
 
 特長2
 
 装置仕様
 
 電子材料研究会資料
 
 取得特許について
 
 

株式会社ワコム電創(現在の株式会社ワコム研究所 代表取締役:楠原昌樹)は、世界で初めてFeRAM-LSI量産対応の強誘電体薄膜用MOCVD装置の開発に成功しました(販売代理店:株式会社渡辺商行)
この世界初のMOCVDシステムの実現のため、従来のCVD装置には無かった独自の新技術を、株式会社渡辺商行の支援の下、山形大学工学部・都田昌之教授と共同で開発しました
山形大学と共同で開発した新技術の内容と、MOCVDシステムの性能については、これまでに応用物理学会、ISIF*等の国内外の学会で発表し、高い評価を受けております

ISIF - International Symposium on Integrated Ferroelectrics

掲載記事(1) - Micro Technology Business 2003年3月7日
掲載記事(2) - Semiconductor Japan Net 2003年3月7日(2010.05.24現在リンク切れ)
 
この装置の大きな特長として、渡辺商行およびワコム電創(現・ワコム研究所)と山形大学工学部物質工学科教授である都田昌之博士との共同研究で独自に開発した、高性能溶液供給システムと気化システム(共に国際特許取得)があげられます。高性能溶液供給システムは、デッドスペースが小さく、クリーニングが容易であり、自動的に清浄な状態に維持されます。また、気化システムは、独自の構造によって原料溶液を効率的に気化するため、ノズルの目詰まりが無く、長期の連続運転を可能にしています
 
 特長1  特長2  装置仕様  電子材料研究会資料  
 
 取得特許について        
 
 
Copyright © 2006-2012 WACOM R&D Corporation All Rights Reserved.