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沿革  

 ワコム研究所は、次世代半導体素子を製造するための各種CVD成膜技術に
必要な世界No.1気化器の開発に成功し、そのアプリケーション開発を目的として設立いたしました。
また、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)ならびに MOALD
(Metal Organic Atomic Layer Deposition)に特化した強誘電体薄膜、
高誘電体薄膜、電極膜、メタル薄膜など現在世界No.1技術を達成しています。
 ワコム研究所は、日々たゆまぬ努力を重ね、その目的とする技術の完成を
目指し、人類の幸福、発展、世界平和、環境保全に寄与することを経営理念としております。

2007年2月1日
株式会社 ワコム研究所
代表取締役  楠原 昌樹

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