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 沿革

沿革  
1974
昭和46年
2月 株式会社ワコム製作所設立
キセノンランプ・水銀ランプの製造に着手

1979

昭和54年
4月 ソーラーシミュレータの製造に着手
1982 昭和52年 9月 機器装置部門新設
1983 昭和58年 4月 IPA(Isopropyl alcohol)乾燥装置の製造に着手
1991 平成3年 4月 半導体用洗浄装置の製造に着手
1995 平成7年 9月 社名を株式会社ワコム電創に改称
2000 平成12年 8月 ISO9001認証取得 (ワコム電創)
2001 平成13年 3月 ISIF国際会議(International Symposium on Integrated Ferroelectrics)
[ コロラドUSA ]にてMOCVD装置気化システム完成を発表
2002 平成14年 3月 機器装置部門の中にMOCVD装置開発部門を設置
試験用社内装置(1号機)を製造し、研究開発を開始
2003 平成15年 3月 ISIF国際会議[ コロラドUSA ]にて強誘電体メモリ製造用MOCVD量産型装置
(装置名: Dr.T)の販売開始を発表 試験用社内装置(2号機)を製造
2004 平成16年 10月 NEDO(新エネルギー・産業技術総合開発機構)の補助・助成事業を行うにあたり
試験用社内装置(3号機)を製造
2005 平成17年 12月 社名を株式会社ワコム製作所に改称
2006 平成18年 1月 MOCVD装置研究開発部門として、株式会社ワコム研究所を設立
 
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